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半导体制造工艺课件(PPT 98页)

所属分类:工艺技术

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资料简介:

半导体制造工艺
图形转换:光刻
光刻
图形转换:刻蚀技术
干法刻蚀
杂质掺杂
扩    散
离子注入
退    火
氧化工艺
氧化硅层的主要作用
SiO2的制备方法
化学汽相淀积(CVD)
物理气相淀积(PVD)
半导体工艺
20世纪60年代的典型工艺
20世纪70年代的典型工艺
20世纪80年代的典型工艺
N-well CMOS 工艺
课程设计作业一
双极集成电路 制造工艺
隔离技术
接触与互连
 半导体工艺小结
..............................

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灯具与安装工艺课件(PPT 44页)

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