集成电路工艺基础培训课件(ppt 52页)
所属分类：工艺技术
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资料简介：
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主要内容
核碰撞和电子碰撞
注入离子在无定形靶中的分布
注入损伤
热退火
离子注入
离子注入应用
离子注入系统的原理示意图
离子注入系统原理-离子源
离子注入系统原理-磁分析器
离子注入系统原理
离子注入的优缺点
4.1 核碰撞和电子碰撞
核碰撞和电子碰撞
核阻止本领
电子阻止本领
4.2 注入离子在无定形靶中的分布
注入离子在无定形靶中的分布
**离子注入的沟道效应
射程分布与注入方向的关系
怎么解决？？？
浅结的形成
注入后发生了什么………
注入损伤
轻离子注入
重离子注入
非晶层的形成
注入后需要做什么……
硼的退火特性
磷的退火特性
热退火过程中的扩散效应
快速热退火（RTA）
作业：
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