半导体制造工艺之离子注入原理课件(PPT 38页)

注入离子如何在体内静止？
 核阻止本领与电子阻止本领-LSS理论
核阻止本领
电子阻止本领
总阻止本领（Total stopping power）
注入离子的浓度分布
注入离子的真实分布
注入掩蔽层——掩蔽层应该多厚？
离子注入的沟道效应
减少沟道效应的措施
典型离子注入参数

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