TFT-LCD阵列工艺介绍(PPT 38页)
所属分类：工艺技术
文件大小：1756 KB
下载要求：10 学币或VIP
点击下载
资料简介：
一、TFT-LCD的基本构造
二、ARRAY工艺简介
三、阵列检查介绍
TFT-LCD阵列工艺介绍
主要内容
二、ARRAY工艺介绍
2.1阵列基板的构造和功能
2.2阵列基板的制造原理
2.3阵列基板的制造工艺流程
图6TFT器件的基本构造
当Vg≤Vth时
Ids=0
当Vg>Vth且Vds<Vg-Vth时
Ids=(W/L)•μC0{(Vg-Vth)Vds-Vds2/2}
当Vg>Vth且Vds>Vg-Vth时
Ids=(W/L)•μC0(Vg-Vth)2/2
式中，Vth:阈值电压
μ：电子迁移率
C0:单位面积栅绝缘层电容
2.2阵列基板的制造原理
反应气体在高频电场作用下发生等离子体（PLASMA）放电。
等离子体与基板发生作用将没有被光刻胶掩蔽的薄膜刻蚀掉。
..............................
下一篇：TAB工艺制程(PPT 90页)
精品资料网 m.cnshu.cn
Copyright © 2004- 粤ICP备10098620号-1
