干膜曝光工艺(pdf 6页)
所属分类：工艺技术
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资料简介：
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一。光源的选择
二。曝光时间(曝光量)的控制
三。照相底版的质量
四。曝光定位（适用于非自动曝光机）
干膜曝光即在紫外光照射下，光引发剂吸收了光能分解成游离基，游离基再引发光聚合单体
进行聚合交联反应，反应后形成不溶于稀碱溶液的体型大分子结构。曝光一般在自动双面曝
光机内进行，现在曝光机根据光源的冷却方式不同，可分风冷和水冷式两种，影响曝光成像
质量的因素除干膜光致抗蚀剂的性能外，光源的选择、曝光时间(曝光量) 的控制、照相底
版的质量等都是影响曝光成像质量的重要因素。
一。光源的选择
任何一种干膜都有其自身特有的光谱吸收曲线，而任何一种光源也都有其自身的发射光
谱曲线。如果某种干膜的光谱吸收主峰能与某种光源的光谱发射主峰相重叠或大部分重叠，……
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