集成电路制造工艺原理(doc 71页)
所属分类：工艺技术
文件大小：318 KB
下载要求：10 学币或VIP
点击下载
资料简介：
..............................
第一章 衬底材料及衬底制备
第二章 外延工艺
第三章 氧化工艺
第四章 掺杂工艺
第五章 光刻工艺
第六章 制版工艺
第七章 隔离工艺
第八章 表面钝化工艺
第九章 表面内电极与互连
第十章 器件组装
介绍了与电子科学与技术中的两个专业方向（微电子技术方向和光电子技术方向）相关的制造业，指明该制造业是社会的基础工业、是现代化的基础工业，是国家远景规划中置于首位发展的工业。介绍了与微电子技术方向相关的分离器件（硅器件 ）、集成电路（硅集成电路）的制造工艺原理的内容，指明微电子技术从某种意义上是指大规模集成电路和超大规模集成电路的制造技术。由于集成电路的制造技术是由分离器件的制造技术发展起来的，则从制造工艺上看，两种工艺流程中绝大多数制造工艺是相通的，但集成电路制造技术中包含了分离器件制造所没有的特殊工艺。介绍了与光电子技术方向相关的分离器件、集成电路的制造工艺原理的内容。指明这些器件（发光器件和激光器件）和集成电路（光集成电路）多是由化合物半导体为基础材料的，最常用和最典型的是砷化镓材料，本课程简单介绍了砷化镓材料及其制造器件时相关的工艺技术与原理。在课程介绍中，指出了集成电路制造工艺原理的内容是随着半导体器件制造工艺技术发展而发展的、是随着电子行业对半导体器件性能不断提高的要求（小型化、微型……
..............................
精品资料网 m.cnshu.cn
Copyright © 2004- 粤ICP备10098620号-1
