显影刻蚀和剥膜设备培训资料(PDF 53页)
所属分类：设备管理
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资料简介：
一、显影
显影的基本知识及原理
显影设备
显影过程中易出现的问题
二、刻蚀
刻蚀的基本原理
刻蚀设备
刻蚀过程中注意事项
刻蚀过程中容易出现的问题
三、剥膜
剥膜的基本知识
剥膜设备
剥膜过程中容易出现的问题
显影：使用显影液处理玻璃表面，将未经过光照的光刻
胶层或者感光性电极浆料除去（因为使用的是负性胶），
保留住光照过的部分，用化学方法使UV光未照射部分
的光刻胶或感光性电极浆料溶于显影液中。
该工序主要用于ITO电极、BUS电极、ADD电极的制备
过程中。
P-5
1、显影过程：
（1） ITO 显影的PR胶成分：Binder Polymer；Photo-initiator
(PI)；Cross-linkable monomer(交联单体)；Additive；
Solvent等。
（2）BUS和ADD浆料的主要成分： Ag； Glass Powder；
Resin；Solvent；Filler ；Additives；Others
它们使用的是碱溶性感光树脂。
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