201249_KWY晶洲企业培训知识管理资料(PDF 28页)

主要内容：
1、用焦炭与石英砂（SiO2）混合高温，产生粗硅。
（SiO2+2C=高温=Si+2CO↑）
•2、将粗硅与氯气高温，生成四氯化硅。
（Si+2Cl2=高温=SiCl4）
•3、将氢气与四氯化硅高温，生成多晶硅。
（SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl）
•4、高纯多晶硅熔融籽晶提拉（直拉单晶炉）--单晶硅棒
高纯度硅在石英中提取，以单晶硅为例，提炼要经过以下过程：石英砂一冶金级硅一提纯和精炼一沉积多晶硅锭一单晶硅一硅片切割。
冶金级硅的提炼并不难。它的制备主要是在电弧炉中用碳还原石英砂而成。这样被还原出来的硅的纯度约98-99%，但半导体工业用硅还必须进行高度提纯(电子级多晶硅纯度要求11个9，太阳能电池级只要求6个9)
热的NaOH和IPA以及添加剂混合溶液溶液去除表面切割损伤层制备绒面；
Si+2NaOH+H2O =Na2SiO3+2H2
•HF去除硅片在清洗过程中形成的很薄的SiO2层
SiO2+6HF = H2[SiF6]+2H2O
•HCl去除硅表面金属杂质，盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与Pt 2+、Au 3+、Ag +、Cu+、Cd 2+、Hg 2+等金属离子形成可溶于水的络合物。
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